天莫殇内容简介 · · · · · ·
天莫殇章节预览 · · · · · ·
类】
制备手段：
清洗基片（四阶45%/四阶80%）
溶液配制I（四阶40%/四阶50%）
溶液配制II（四阶0%/四阶80%）
旋涂I（四阶40%/四阶50%）
旋涂II（三阶50%/四阶80%）
蒸镀（四阶35%/五阶0%）
表征手段：
光电性能I（四阶40%/四阶80%）
光电性能II（三阶50%/五阶0%）
光学性能（四阶5%/五阶0%）
电荷输运性能（三阶30%/四阶40%）
【仪器设备工具类】
……
【特殊类】
文献阅读（三阶1%/四阶50%)
周常任务II:进行实验15小时以上，模拟实验的时长同样记入任务。当前进度（0.5/15小时），任务完
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